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產品分類

光刻機

SPS 光刻機 POLOS μ

可以以微米分 辨率生成任何2D形狀,而無需硬掩模
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產品概述 技術參數 產品視頻 應用領域 下載中心 產品報價

產品概述

主要特點:

1、寫入分辨率低至2 μm
2、可調整的寫作領域和具有可互換目標的解決方案
3、與CAD文件或位圖圖像兼容
4、與g線光刻膠兼容
5、兼容多種基材(硅,玻璃,金屬,塑料等)
6、兼容任何樣品尺寸達4英寸的晶片
7、相機反饋以進行對準步驟
8、由于沒有硬掩模,節省了時間和金錢
9、將設計直接覆蓋在樣品上的直觀對齊方法
10、占地面積小的桌面
11、非常適合微電子,2D材料,微流體,光電,opty或任何其他2D微加工應用的技術

技術參數

1、光源曝光:435 nm; 對準:525 nm
2、最小特征尺寸:2至23 μm可調
3、對準分辨率:低至1 μm / cm2
4、最大曝光面積:75 x75 mm2
5、基板尺寸:最大4”晶圓
6、系統尺寸:W:(36厘米); D:(36厘米); 高:(60厘米)
7、多合一PC:Win 10、24英寸全高清
8、SFTprint軟件:機器控制,步進重復,自動劑量測試,縫合,對齊
9、SFTconverter:將標準格式(gdsii,dxf,cif,oas)轉換為位圖圖像。 隨附的CAD軟件

產品視頻

應用領域

廣泛應用于電子、半導體、醫療器械等領域的甩干,沖洗,清潔,涂膠等。

下載中心

產品報價


 

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